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光學(xué)平臺(tái)，又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面、實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，供水平、穩(wěn)定的臺(tái)面，一般平臺(tái)都需要進(jìn)行隔振等措施，保證其不受外界因素干擾，使科學(xué)實(shí)驗(yàn)正常進(jìn)行。目前來(lái)說(shuō)，有主動(dòng)與被動(dòng)兩大類。而被動(dòng)又有橡膠與氣浮兩大類。
光學(xué)平臺(tái)追求水平，首先加工的時(shí)候整個(gè)臺(tái)面是極平的。之后臺(tái)面置放與四個(gè)聯(lián)通的氣囊上，以保證臺(tái)面水平。臺(tái)面上布滿成正方形排列的工程螺紋孔，用這些孔和相應(yīng)的螺絲可以固定光學(xué)元件。這樣，當(dāng)你完成光學(xué)設(shè)備的搭建，系統(tǒng)基本不會(huì)受外來(lái)擾動(dòng)而產(chǎn)生變化。即使按動(dòng)臺(tái)面，它也會(huì)因?yàn)闅饽叶詣?dòng)回復(fù)水平。
光學(xué)平臺(tái)從功能上分為固定式和可調(diào)式；被動(dòng)或主動(dòng)式。
光學(xué)平臺(tái)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗(yàn)儀器、設(shè)備振動(dòng)隔離的關(guān)鍵裝置中。
主要構(gòu)成
標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)平臺(tái)基本組件包括：1、頂板；2、底板；3、側(cè)面精加工貼臉；4、側(cè)板；5、蜂窩芯；6、密封杯等。
鋼的構(gòu)造
平臺(tái)和面包板應(yīng)具有全鋼結(jié)構(gòu)，包括厚5毫米的頂板和底板，以及厚0.25毫米的精密加工的焊接鋼制蜂窩芯。蜂窩芯通過(guò)精確的壓膜工具制成，通過(guò)焊接平墊片保證其幾何間距。平臺(tái)和面包板中的蜂窩芯結(jié)構(gòu)從頂板一直延伸到底板，中間無(wú)過(guò)渡層，從而構(gòu)成更加堅(jiān)固、熱穩(wěn)定性更強(qiáng)的平臺(tái)產(chǎn)品。
熱穩(wěn)定性
熱穩(wěn)定性的關(guān)鍵之處在于各軸方向上都具有對(duì)稱、各向均勻的鋼制結(jié)構(gòu)。鋼制部件在熱交換過(guò)程中的延伸性和收縮性是相似的，可以在溫度變化過(guò)程中保持良好的平整度。鋼制的蜂窩芯結(jié)構(gòu)從頂板延伸到底板，中間并無(wú)塑料或鋁質(zhì)泄露管理結(jié)構(gòu)，因此不會(huì)降低平臺(tái)整體的剛度或是引入更高的熱膨脹系數(shù)。我們采用鋼質(zhì)側(cè)板，而不是木板，這樣就消除了由于濕度而引起的環(huán)境不穩(wěn)定因素。
精密加工
自動(dòng)化加工過(guò)程
自動(dòng)化加工系統(tǒng)平臺(tái)和面包板的特殊之處是采用自動(dòng)軌道機(jī)械啞光表面加工，比老舊的平臺(tái)產(chǎn)品更加平滑、平整。這些平臺(tái)經(jīng)過(guò)改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內(nèi)可達(dá)±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對(duì)頂面進(jìn)行打磨。
大半徑角
平臺(tái)和面包板設(shè)計(jì)還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實(shí)驗(yàn)室中的尖銳邊緣，提高安全性。
主要配件
支撐架
光學(xué)平臺(tái)包括剛性、無(wú)隔振支撐架，被動(dòng)式隔振支撐架，主動(dòng)式自動(dòng)調(diào)平支撐架。
其他配件
光學(xué)平臺(tái)其他配件還包括貨架、安裝座、桌下擱板、振動(dòng)隔離配件、可安裝支桿的光學(xué)平臺(tái)配件、可調(diào)式光學(xué)爬升架安裝座、地震抑制、光學(xué)面包板罩殼、遮光材料、磁性薄片等等。
生產(chǎn)意義
當(dāng)今科學(xué)界的科學(xué)實(shí)驗(yàn)需要越來(lái)越精密的計(jì)算和測(cè)量，因此一個(gè)能與外界環(huán)境和干擾相對(duì)隔離的設(shè)備儀器對(duì)實(shí)驗(yàn)的結(jié)果測(cè)量時(shí)非常重要的。能夠固定各種光學(xué)元件以及顯微鏡成像設(shè)備等的光學(xué)平臺(tái)也成為科研實(shí)驗(yàn)中必備的產(chǎn)品。光學(xué)平臺(tái)主要的一個(gè)目標(biāo)是消除平臺(tái)上任意兩個(gè)以上部件之間的相對(duì)位移。
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